Pattern Resin LS 105ml folyadék
A GC Pattern Resin LS alacsony zsugorodású, önkötő akrilbázisú modellező gyanta, amely széles körben alkalmazható fogtechnikai laboratóriumi és szék melletti eljárásokhoz. A hosszú ideje alkalmazott anyagot elsősorban olyan precíziós modellezési feladatokhoz fejlesztették, ahol fontos a pontos reprodukció, a jó adaptáció, a méretstabilitás és a kialakított forma megbízható megtartása. Általános modellezési felhasználása mellett egyedi attachmentek, kúpos és teleszkópkoronák, implantációs szuprastruktúrák, implantátum-transzfer technikák, korona- és hídmunkák, inlay és onlay restaurációk, részleges fogpótlások, valamint elektroformázási technikák esetén is alkalmazható.
A Pattern Resin LS tixotróp anyagtulajdonságai kedvező folyási és kezelési karakterisztikát biztosítanak. Az anyag jól kontrollálható a modellezés során, miközben megfelelő folyási képessége lehetővé teszi a finom részletek pontos kialakítását és reprodukcióját. Magas nedvesíthetősége elősegíti az egyenletes keverhetőséget és felvitelt, így összetett geometriák, finom kontúrok és kis kiterjedésű részletek modellezésére is alkalmas. A gyantát kifejezetten ecsettechnikához fejlesztették, amely lehetővé teszi az anyag kontrollált, fokozatos felépítését és a kívánt forma precíz kialakítását.
A minimális polimerizációs zsugorodás hozzájárul a modellezett struktúrák pontos adaptációjához és a kialakított geometria megbízható reprodukciójához. A polimerizációs zsugorodás 30 perc elteltével 0.36%, 24 óra elteltével 0.37%. Ez különösen előnyös olyan precíziós fogtechnikai munkáknál, ahol a mintázat méretváltozása közvetlenül befolyásolhatja a későbbi öntvény illeszkedését.
A kikeményedett Pattern Resin LS nagy keménységgel és szilárdsággal rendelkezik, ezért vékony rétegben alkalmazva is stabil marad, és ellenáll a modellezett struktúra nem kívánt deformációjának. Ez a tulajdonság finom, kis keresztmetszetű vagy összetett mintázatok kialakításakor különösen jelentős. Az anyag kikeményedés után jól megmunkálható, könnyen vágható, formázható és finírozható, így a kontúrok és az illeszkedési területek pontosan kidolgozhatók.
A gyanta maradványmentesen kiégethető, ami homogén, sima és tiszta öntési felületek kialakítását támogatja. A kiégetés során visszamaradó szennyeződés hiánya különösen előnyös a precíziós öntési technikákban, ahol a modellezőanyag maradványai kedvezőtlenül befolyásolhatnák az öntvény felületi minőségét. A Pattern Resin LS ezért a hagyományos modellezési feladatokon túl olyan összetett restaurációs és fogtechnikai munkákhoz is megfelelő, amelyeknél a modellezett forma pontos átvitele és a tiszta öntési felület egyaránt fontos.
Az anyag egyedi attachmentek és felépítmények, kúpos és teleszkópkoronák, implantációs szuprastruktúrák és implantátum-transzfer munkák modellezésére egyaránt használható. Korona- és hídtechnikában, inlay és onlay restaurációknál, részleges fogpótlások kialakításánál, valamint elektroformázási eljárások során is alkalmazható. A stabil anyagszerkezet és a kontrollálható feldolgozhatóság lehetővé teszi, hogy a modellezett részletek és határvonalak pontosan megmaradjanak a további laboratóriumi munkafázisok során.
A GC Pattern Resin LS por-folyadék rendszerű akrilgyanta. A por komponens polimetil-metakrilátot PMMA, polietil-metakrilátot és dibenzoil-peroxidot, míg a folyadék komponens metil-metakrilátot és 2-hidroxietil-metakrilátot tartalmaz. Az anyag munkaideje 23°C-on 2-3 perc, kötési ideje 23°C-on 4 perc, míg hajlítószilárdsága 37°C-on, 10 perccel a kötés után 63MPa. A rövid kötési idő és a kikeményedett anyag mechanikai stabilitása együttesen alkalmassá teszi a pontos, részletgazdag modellezési munkák elkészítésére.
A GC Pattern Resin LS alacsony zsugorodása, tixotróp viselkedése, magas nedvesíthetősége, nagy keménysége és szilárdsága, vékony rétegben is megmaradó stabilitása, jó megmunkálhatósága és maradványmentes kiégése révén sokoldalúan használható modellezőanyag a precíziós fogtechnikai és szék melletti eljárásokban. Anyagtulajdonságai különösen azoknál a munkafolyamatoknál előnyösek, ahol a finom részletek reprodukciója, a pontos adaptáció és a modellezett forma méretstabilitása meghatározó szempont.